阿斯麦

智通財經APP獲悉，據瞭解，荷蘭半導體設備巨頭阿斯麥(ASML.US)在極紫外光刻機的光源技術領域取得了新突破。這項新進展有望到2030年將芯片產量提升50%。

阿斯麥首席技術專家邁克爾·珀維斯在聖地亞哥附近的阿斯麥辦公室接受採訪時表示："這並非曇花一現的演示把戲，而是一個能夠在客戶現場所見的所有同等要求下，持續產出1000瓦功率的系統。"

阿斯麥是全球唯一能製造極紫外光刻機的公司。臺積電(TSM.US)、英特爾(INTC.US)等芯片代工廠商均依賴其設備來生產先進處理器。然而，市場格局正面臨潛在挑戰。去年晚些時候，包括Substrate和xLight在內的一些初創公司獲得了特朗普政府提供的1.5億美元資金，正試圖打破阿斯麥的市場壟斷。

科羅拉多州立大學教授豪爾赫·J·羅卡指出，當前EUV光源的功率爲600瓦，躍升至1000瓦是相當實質性的進步。

珀維斯表示，公司的願景是持續推動技術進步，超越1000瓦大關，進一步鞏固其市場地位。"我們看到了通往1500瓦的相當清晰的路徑，並且沒有根本性理由阻止我們達到2000瓦。"

週一尾盤交易時段，阿斯麥股價小幅下跌。

1月末，阿斯麥發佈了2025年第四季度財報(截止2025年12月)。該公司正持續受益於人工智能基礎設施建設的數千億美元投資，並錄得較爲亮眼的業績。其財報顯示，第四季度新增訂單創下歷史紀錄，並預測2026年銷售額將繼續增長。

阿斯麥對未來仍持樂觀展望。其客戶，即全球各大芯片製造商對AI相關需求的持續性和產能擴張充滿信心，進而推動了阿斯麥的訂單增長。

與此同時，儘管業績持續強勁增長，阿斯麥仍宣佈了一項涉及約1700個崗位的裁員計劃。裁員主要影響技術部門和IT部門，主要涉及荷蘭的管理層職位，同時也會波及美國業務。按公司目前員工總數計算，裁員比例約爲4%。